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$XNVDA 存储周期见底?国产DUV光刻机量产吓跌美股?
7月27日,半导体板块出现了两条方向相反的信号,三星和SK海力士公布了一份规模空前的联合扩产计划:
两家合计投入约1350万亿韩元(约8700亿美元),用于未来十年的存储、封装和逻辑芯片产能建设。其中SK海力士永仁园区第四座工厂的完工时间被大幅提前,从原计划的2045年提前到2033年;三星P5、P6工厂的建设进度同样提前了六个月以上。
对市场而言,这本是一个偏结构性利好的信号——只要AI资本开支不停,存储芯片厂商的定价权和盈利能见度就相对清晰。
把市场情绪打疼的,是The Information的独家报道:
一家总部位于上海、有国资背景的企业联合体已经开始批量生产国产浸没式DUV光刻机,交付对象包括中芯国际、华虹半导体和长鑫存储,今年计划交付约5台,2027年约20台。
消息一出,阿斯麦股价盘中一度重挫超过8%,应用材料、泛林、科磊等美国半导体设备股同步遭到抛售,几分钟内蒸发了数十亿美元市值。
让市场紧张的从来不是这5台或20台设备本身——真正的信号是,光刻这个公认最难攻克的技术瓶颈,被撕开了一道口子。
AI硬件产业链正在经历一次分化定价:存储芯片受益于结构性短缺,估值逻辑依然偏正面;半导体设备商则要开始消化"中国自主替代"这个此前被低估的长期尾部风险;
而英伟达、甲骨文等AI核心算力公司的债务杠杆,也正在被信用市场重新审视
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