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国产 DUV 光刻机跑通试产，对芯片代工和硬件算力是个实质性转折信号。 美媒《The Information》最新爆料称，中国已开始小批量生产国产浸没式 DUV 光刻机，由上海御光庭（Yuliangsheng，背靠华为/思尔芯生态）等本土厂商研发，今年计划交付 5 台，明年产能增至约 20 台。首批设备正逐步进入中芯国际（SMIC）、华虹和长鑫存储（CXMT）进行产线验证。 为什么这件事值得搞硬件、AI 算力和宏观投资的群体关注？拆解 3 个关键事实： 原生支持 28nm，多重曝光下向 7nm/5nm 延伸 这批国产浸没式 DUV 采用 193nm ArF 光源，直接锚定 28nm 成熟制程。通过多重曝光（SAQP 等技术），能够辅助中芯等代工厂进一步巩固 7nm/5nm 级芯片的本土化生产能力。 量产规模与 ASML 仍有数量级差距 作为对比，ASML 一年出货浸没式 DUV 上百台（如 NXT:2150i），单机每小时可处理 310+ 片晶圆。国产设备从“小批量交付试跑”到“高良率大批量产”通常需要 2-3 年的产能磨合期。 长鑫与华虹获益，成熟制程与存储芯片率先“补血” 除了中芯提效先进制程，长鑫存储（DRAM）和华虹（特色工艺）获得国产 DUV 补充，意味着消费级芯片、车规芯片及大容量内存的供应链脱钩风险被进一步对冲。 别脑子一热盲目吹捧“全面超越”，也别低估国产供应链在严苛封锁下的迭代速度。算力底座的国产化不是一夜突变，而是“设备入厂 -> 产线跑通 -> 良率提升 -> 规模替代”的漫长工程。长期看，AI 芯片与矿机芯片的产能弹性正迎来底座支撑。